【Unity】静态优化工具支持UGUI合批分析、AB包冗余分析、预制体使用资源情况分析
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工具Github链接地址
https://github.com/AMikeW/UnityResourceStaticAnalyzeTool
工具功能
一、分析预制体静态资源，如贴图、精灵图、图集等使用情况。
第一张图表格是预制体的使用资源情况，第二张图是分析预制体的依赖资源具体内容，主要是图片MD5作为key值存于字典中，字典的值为{图集Tag,SpriteAtlas路径，图片路径，预制体路径}，标记为红的代表冗余，标记为黄的代表图集冗余，这个表格有过滤处理，如需查看未过滤的情况可修改源码如下位置；
直接搜过滤两个字，删掉这部分即可，tempDict为过滤后的字典，过滤的是 字典，由于较多地方用到，看实际情况修改，上面为其中一个例子。
二、分析AB包冗余情况
原理：加载工程内所有ab包，分析其下的全部资源（支持大多数资源类型），最终会分析出如下表格。
三、分析UGUI合批情况
0/0/0/0 代表 合批ID/深度/材质ID/贴图ID ，其中材质ID和贴图ID都是虚拟ID（被我修改后的，详情看源码）
大致参考https://gameinstitute.qq.com/community/detail/112235
这篇文章并没有给出工具，所以就自己实现了一下，可能有错误还需要优化调整，代码写的很乱，但是都有比较详细的注释。
原理：
按深度优先级顺序遍历Cavnas下的所有UI（可理解为Canvas为根节点），根据如下规则计算深度：
①UI下不存在任何UI时（注意UI下并不是指子UI），深度为0。
②UI下存在UI时，若可以与其下UI合批（材质、贴图相同）且相交，则深度为其下UI深度；若不可以与其下UI合批且相交，则深度为其下UI深度+1；当其下存在多个UI时，逐个计算出depth_1, depth_2, ... 取最大作为自身深度。
以上图为例说明，注意第二个数字就是深度；
1、M其下没有UI，深度为0；
2、A1其下有M，判断出不可与M合批且相交，深度为M深度+1=0+1=1；
3、A2其下有A1、M，判断出可与A1可批且相交，A2&A1_depth为A1深度=1，判断出不可与M合批且相交，A2&M_depth为M深度+1=0+1=1，取max(A2&A1_depth, A2&M_depth)=max(1,1)=1，为A2深度。
4、Text其下有A2、A1、M，同上原理计算出Text&A2_depth=2, Text&A2=2, Text&M=1，取最大为2；（其他情况同理）
每一个UI的深度计算出来后，还需知道它们的材质ID和贴图ID 以及 UI层级，进行如下的排序
1、深度先序
2、材质先序
3、贴图先序
4、层级先序（PS：UI层级即我们熟悉的渲染顺序层级）
最后，从前到后遍历整个列表，只要出现一个相邻元素贴图、材质、深度不同，合批ID会自增，说明它们不是一个批次的。
Mask打断合批的情况：（可选看）
1、 一个Mask自身下的 子UI可以合批， 但不能与Mask外的UI合批。
2、Mask下的所有子UI可合批时，有一个DC，而Mask自身也会生成一个DC（必然会有一个DC）
2、 多个Mask自身不会合批。
测试Unity 2017 4.32f1
（最优先考虑）
1、Mask整体（包括子物体UI） 不与任何UI相交时，
1.1 Mask自身可与其他Mask自身合批，合批ID必须一样（已确认）
1.2 Mask下的子UI可与其他Mask下的子UI合批，按照正常合批来考虑，合批ID必须一样（已确认）
1.3 Mask裁剪图可与其他Mask裁剪图合批，限制条件如下：
条件①：Mask图下不能有Text字体网格与子UI图相交（关于字体网格如何计算还未清楚，目前可粗略考虑为RectTransform相交）
条件②：Mask图不能和Text字体网格与子UI相交（已确认与4同理）
条件③：Mask图下不能有【不可合批的子UI图片】相交（已确认）
条件④：Mask图不能和【不可合批的图片】相交。（已确认，即Mask裁剪图的Mask物体们必须合批ID相同）
限制条件总结为：Mask图及其子UI不能存在不可合批的相交UI情况（UI包括Text、Image等）
但，只要满足限制条件，Mask裁剪图下的子UI无论是否能合批，裁剪图都会合批；比如：即使子UI下存在不可合批的UI，但只要它们没有相交，那裁剪图就能合批！
2、Mask整体 有与其他UI相交时， （与1相反）
2.1 Mask自身不能与其他Mask自身合批
2.2 Mask下的子UI不能与其他Mask下的子UI合批
2.3 Mask裁剪图不可与其他Mask裁剪图合批（暂未发现其他能合批的情况）
3、默认情况（无论是否相交）
Mask下的子UI可合批，只要保证材质、贴图相同
总结为
1、Mask自身合批，必须自身合批ID一样（与正常一样 不用管）
2、Mask下子物体合批，也必须是子物体的合批ID一样（与正常一样 不用管）
3、Mask裁剪图合批，必须满足Mask自身可合批，Mask下子物体之间不能合批的不能相交（如图片和字体，不同图集的图片）
关键3，检查Mask之间自身的合批ID，若不一样标注：Mask裁剪图不可合批，因Mask图不能合批
检查Mask下的子UI，检查所有子UI，存在不相同合批ID的UI相交时，标注：Mask裁剪图不可合批，因存在不可合批的子UI相交