我如何理解OpenGL ES规范中的样本掩码？

Question

我正在阅读有关samplemask的gles spec。

有一个关于samplemask我无法理解的段落。以下是该规范的片段。

当状态指定对于给定的片段的多个片段着色器 调用，对于任何单个片段 着色器调用样本掩码可以指定用于该片段覆盖采样的子集。在 这种情况下，与每个覆盖样本对应的位将被精确设置为一个 片段着色器调用。

有人可以帮给我一个例子，或者帮助我明白了吗？我与部分

感谢“碎片的覆盖样本的一个子集”相当混乱。

Answer 1

样品掩模（也被称为覆盖掩码）定义了在像素样本内的原语被光栅化，并且其已存活任何早ZS测试。如果每个像素只有一个样本（不论是否渲染碎片），这并没有多大意义，但是如果您使用多重采样，则每个像素会有多个样本点。在三角形的边缘，光栅化可能仅击中4个样本中的3个，并具有覆盖掩码b0111，其指示将哪些样本写入帧缓冲区。

对于多样本反锯齿，您只执行一个片段着色器每个像素的调用，而不考虑覆盖掩码，以便片段将具有（在我们的示例中）覆盖掩码b0111。

如果您使用的采样率在阴影的OpenGL ES 3.x中，你将执行3个片段着色器调用，每个样品的打击，所以也要覆盖掩码b0001，b0010和b0100，每写一个子具有唯一片段颜色的像素中的像素样本。