半导体材料复习
半导体材料复习
半导体的主要特性
- 电阻率：10-3~109·cm
- 负温度系数：T升高，电阻率减小
- 具有高热电势
- 整流效应
- 光敏特性
- 掺杂可以提高导电能力
第一章 硅和锗的化学制备
高纯硅的制备
先由硅石（二氧化硅）制得工业硅（粗硅——纯度低、杂质多），再制成高纯多晶硅，经拉制得到单晶硅。
粗硅的制备
- 原料：石英砂（）和硅酸盐（）
- 方法：石英砂与碳在碳电极的电弧炉中还原，可制得纯度为97%的粗硅。
- 反应温度下硅是气相，然后凝固成固相。
高纯多晶硅的化学制备
- 三氯氢硅（）氢还原法 ：提纯的主要方法是精馏，可将的纯度从97%-98%提纯到9个9到10个9。
- 硅烷（）法：
- 硅烷的提纯：吸附法（分子筛、活性炭）
- 硅烷的热分解
- 四氯化硅（）还原法：硅的吸收率低。